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供应信息
产品名称 湿法刻蚀设备、苏州晶淼半导体设备有限公司
发布时间 2020-5-22
湿法刻蚀设备 非标定制硅片清洗机等湿法刻蚀设备 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式。 清洗能力：2-8英寸晶片或石英管或其他被洗工作。 需甲方提供花篮或我司设计篮具。 设备形式:
产品名称 超声波清洗机、苏州晶淼半导体设备有限公司
发布时间 2020-5-22
超声波清洗机 一、设备外型结构及主要参数 1、控制模式: 手动控制模式 自动控制模式，配置振板式超声槽； 2、清洗能力：2-8英寸 1-2篮/批； 3、设备形式: 室内放置
产品名称 LED芯片清洗机、苏州晶淼半导体设备有限公司
发布时间 2020-5-22
led芯片清洗机 1.清洗对象：led芯片，led晶片 2.清洗规格：2-4英寸 4-2篮/批； 6-8英寸 2-1篮/批 3.工艺说明:手动方式实现放件取件，槽体间传送件。 4.设备
产品名称 酸碱洗槽清洗机、苏州晶淼半导体设备有限公司
发布时间 2020-5-22
酸碱洗槽清洗机 用于晶片或其他被洗工件的酸碱洗腐蚀， 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式， 清洗能力：2-8英寸晶片或其他被洗工件。 需甲方提供花篮或我司设计篮具。
产品名称 半导体芯片超声波清洗机
发布时间 2020-4-27
超声波清洗机 一、设备外型结构及主要参数 1、控制模式: 手动控制模式 自动控制模式，配置振板式超声槽； 2、清洗能力：2-8英寸 1-2篮/批； 3、设备形式: 室内放置
产品名称 蚀刻清洗台
发布时间 2020-4-27
蚀刻清洗台 适用产业：半导体照明（LED）--PSS工艺段、外延工艺段、芯片工艺段； 控制模式：手动控制模式、自动控制模式； 制程应用：显影制程； 蚀刻（微蚀刻）制程；去光阻清洗制程；去蜡（胶）
产品名称 自动片盒清洗机
发布时间 2020-4-27
自动片盒清洗机 适用产业：半导体照明（LED）--半导体材料、半导体分立器件、集成电路、MEMS、有机发光二级管（OLED）、太阳能光伏等； 控制模式：手动控制模式、自动控制模式； 制程应用：湿
产品名称 湿法显影清洗机
发布时间 2020-4-27
显影清洗机 适用对象：硅片 、蓝宝石基片，2-4英寸 4-2篮/批； 6-8英寸 2-1篮/批； 适用产业：半导体照明（LED）、半导体材料、半导体分立器件、集成电路、MEMS、有机
产品名称 湿法刻蚀设备
发布时间 2020-4-27
湿法刻蚀设备 非标定制硅片清洗机等湿法刻蚀设备 控制模式: 手动控制模式 自动控制模式。 清洗能力：2-8英寸晶片或石英管或其他被洗工作。 需甲方提供花篮或我司设计篮具。 设备形式:
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